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管式擴散氧化退火爐


設備名稱 Equipment name
管式擴散氧化退火爐  DOA Equipment

設備型號 Equipment Model
DOA-320

設備用途 Equipment Application
主要用于晶體硅太陽能電池制造中硅片的摻雜形成PN結。
The equipment is mainly used for doping ofsilicon wafers in the manufacturing process of crystalline silicon solar celland form PN junctions.

工藝流程 Process Flow
石英舟及硅片準備→插片→上料→選擇工藝運行→進舟→抽真空→升溫穩定→通氧→通源→推進→恒溫→出舟→下舟冷卻→測試→卸片    
Prepare quartz boat & wafers→ Insertwafers→Loading wafers→ Choose recipe → Boat loading→ Vacuumize→ Temperature rising→Oxygen→pocl3 inlet→ Push in→Diffusion treatment→ Boat unloading→ Cooling→ Testing→ Wafer unloading      

技術特點  Features 

· MES控制功能。
  MES control function.

· 低壓擴散功能。
  Low pressure diffusion.

· 防撞舟技術。
  Boat anti-collision function.

· 源壓穩定技術。
  Pressure stabilization of the gas source.

· 作適應性變更,可兼容硼擴散工藝技術。
  Available for adaptation changes,can be compatible with Borondiffusion technology.

· 高方阻技術解決方案。
  High sheet resistance technical solution.

· 自動裝卸舟。
  Automatic boat loading/unloading.

· 具備側出舟功能。
  With BBI function.

· 智能化控制。
  Intelligent control.

· 匹配S.C智能化生產管理系統。
  Match with S.C smart factory solution.

 

設備參數  Parameters


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