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管式等離子體淀積爐

設備名稱 Equipment Name

管式等離子體淀積爐  Horizontal PECVD

設備型號 Equipment Model

PD-450L

設備用途 Equipment Application

主要用于晶體硅太陽能電池制造中電池片的減反射膜生長,也可用于在電池片的背面沉積鈍化膜。
Mainly used for generates highest quality anti-refiective coatings in the production of crystal silicon solar cells, and for deposition of passivation film on the rearside of solar cells.

工藝流程 ProcessFlow

石墨舟及硅片準備→管內充氮氣→進舟→抽真空、壓力測試→氨氣預清理和檢查→管路抽真空、測漏、恒溫→預鍍膜→鍍膜→抽真空、壓力測試→清管路、充氮氣→退舟
Graphite boat & wafers ready→Nitrogen inlet→Graphite boat load in→Vacuum, pressure test →Ammonia pre-clean and check→Vacuum the tube,leak-checking , constant temperature→Pre-coating →Coating→Vacuum,pressure test→Tube cleaning and Nitrogen inlet→Graphite boatunload.
 

技術特點  Features

1. MES控制功能。
MES controlfunction.

2. 中央計算機集中控制。
CCC Control.

3. 雙爐門結構設計。
Double furnace doordesign.

4. 雙水冷凝冷卻密封技術。
Double cooling waterflanges sealing technology.

5. 懸浮承載舟技術。
Graphinte boat contact-free with quartz tube.

6. 快速鍍膜技術。
Fast coatingtechnology.

7. 兼容氮氧化硅PERC技術。
Compatible with SiONPERC technology.

8. 5管,4000片/小時以上產能。
5 tubesthroughput>4000ps/h.

9. 具備一定的氧化鋁退火功能。
With Al2Oannealing function.
 

設備參數  Parameters

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